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  • 材料學(xué)專業(yè)開題報(bào)告

    時(shí)間:2024-10-18 09:45:13 開題報(bào)告 我要投稿

    材料學(xué)專業(yè)開題報(bào)告

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    材料學(xué)專業(yè)開題報(bào)告

      1.論文題目:zno壓電薄膜制造瓷磚的研究

      2.選題意義:

      2.1理論意義

      根據(jù)當(dāng)前的物理尖端技術(shù),利用壓電陶瓷的特性,利用真空制膜機(jī),使用zno等材料制成可以將壓力轉(zhuǎn)化成電能的壓電薄膜。

      2.2實(shí)踐意義

      將壓電薄膜添加在瓷磚中,鋪設(shè)在火車站,飛機(jī)場(chǎng)等人流量大的地方,從而將人們走過的壓力轉(zhuǎn)化成電能以供給照明的用處從而達(dá)到節(jié)能減排的效果。

      3.文獻(xiàn)綜述

      3.1查閱的文獻(xiàn)類型

      主要有:書籍、期刊

      3.2文獻(xiàn)查閱的方法

      主要有:圖書館、CNKI、維普、萬方

      3.3參考的著作

      1.《ZnO壓電薄膜的制備與性能表征》

      作者:許恒星,王金良,唐寧,彭洪勇,范超 于2009年8月第38卷第4期《人工晶體學(xué)報(bào)》

      摘要:采用射頻磁控濺射法在硅(100)襯底上制備高質(zhì)量的ZnO壓電薄膜。利用x射線衍射儀(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、壓電響應(yīng)力顯微鏡(PFM)等儀器研究了薄膜成分,表面形貌和壓電性質(zhì)。結(jié)果表明:實(shí)驗(yàn)制備的ZnO薄膜具有很好的壓電性質(zhì),C軸取向和表面粗糙度對(duì)薄膜壓電特性有很大影響,高度c軸取向生長(zhǎng)和表面粗糙度較小的ZnO薄膜表現(xiàn)出更好的壓電性質(zhì)

      2.《陶瓷薄膜制備及應(yīng)用》

      作者:盧旭晨;李佑楚;韓鎧;王風(fēng)鳴; 于1999期06版《材料導(dǎo)報(bào)》

      摘要:對(duì)各種薄膜制備方法的特點(diǎn)(即物理方法、化學(xué)方法)進(jìn)行闡述,并且從氧化物和非氧化物的角度,綜述了陶瓷薄膜作為硬質(zhì)薄膜、氣敏薄膜以及鐵電、壓電等微電子薄膜的應(yīng)用。

      3.《0-3型壓電陶瓷/聚合物復(fù)合材料的制備工藝新進(jìn)展》

      作者:李小兵;田蒔;張躍; 于2001年04期《功能材料》

      摘要:03型壓電陶瓷/聚合物復(fù)合材料具有單相壓電陶瓷或聚合物所不具備的良好的綜合性能,因此引起了人們廣泛的興趣和研究。本文綜述了03型壓電復(fù)合材料的制備工藝及相應(yīng)復(fù)合材料的壓電性能,重點(diǎn)介紹了水解聚合法、凝聚膠體法、溶液聚合法3種新型制備工藝,簡(jiǎn)要分析各種制備工藝的優(yōu)缺點(diǎn),為壓電陶瓷/聚合物復(fù)合材料(甚至是納米級(jí)壓電復(fù)合材料)的進(jìn)一步研究、開發(fā)和應(yīng)用提供依據(jù)。

      4.《用PLD法制備聲表面波器件用ZnO薄膜》

      作者:劉彥松;王連衛(wèi);李偉群;黃繼頗;林成魯; 于2001年01期《功能材料》

      摘要:采用脈沖激光淀積(PLD)法在單晶Si(100)襯底上淀積了ZnO薄膜。XRD、TEM和AFM分析表明,淀積的ZnO薄膜具有良好的c軸取向性和表面平整度。通過改變淀積氣氛或在純氧中高溫退火,ZnO薄膜的電阻率提高到107Ω·cm.這些結(jié)果表明,用PLD法淀積的ZnO薄膜能夠滿足聲表面波(SAW)器件的需要。

      5.《ZnO薄膜及其性能研究進(jìn)展》

      作者:黃焱球;劉梅冬;曾亦可;劉少波; 于2001年03期《無機(jī)材料學(xué)報(bào)》

      摘要:ZnO薄膜是一種具有優(yōu)良的壓電、光電、氣敏、壓敏等性質(zhì)的材料,在透明導(dǎo)體、發(fā)光元件、太陽能電池窗口材料、光波導(dǎo)器、單色場(chǎng)發(fā)射顯示器材料、高頻壓電轉(zhuǎn)換器、表面聲波元件、微傳感器以及低壓壓敏電阻器等方面具有廣泛的用途。ZnO薄膜的制備方法多樣,各具優(yōu)缺點(diǎn);而薄膜性質(zhì)的差異則取決于不同的摻雜組分,并與制備工藝緊密相關(guān)。本文綜述了ZnO薄膜的制備及性質(zhì)特征,并對(duì)其發(fā)展趨勢(shì)及前景進(jìn)行了探討。

      4.研究設(shè)計(jì)

      4.1概念界定

      zno壓電薄膜:ZnO薄膜是一種具有優(yōu)良的壓電、光電、氣敏、壓敏等性質(zhì)的材料,在透明導(dǎo)體、發(fā)光元件、太陽能電池窗口材料、光波導(dǎo)器、單色場(chǎng)發(fā)射顯示器材料、高頻壓電轉(zhuǎn)換器、表面聲波元件、微傳感器以及低壓壓敏電阻器等方面具有廣泛的用途

      瓷磚:是以耐火的金屬氧化物及半金屬氧化物,經(jīng)由研磨、混合、壓制、施釉、燒結(jié)之過程,而形成之一種耐酸堿的瓷質(zhì)或石質(zhì)等之建筑或裝飾之材料,總稱之為瓷磚。其原材料多由粘土、石英沙等等混合而成。

      4.2研究假設(shè)

      通過采用射頻磁控濺射法在硅(100)襯底上制備高質(zhì)量的ZnO壓電薄膜可以做到將壓力轉(zhuǎn)換為電能的效果。

      4.3研究?jī)?nèi)容

      4.3.1查閱論文期刊,從理論上分析出可以利用zno制作出壓電薄膜;

      4.3.2通過借助我們的指導(dǎo)教師任岳導(dǎo)師實(shí)驗(yàn)室中的射頻磁控濺射法在硅(100)襯底上制備高質(zhì)量的ZnO壓電薄膜

      4.3.3檢測(cè)制作的zno壓電薄膜導(dǎo)電能力并結(jié)合到瓷磚中從而利用到實(shí)踐中。

      4.4研究方法

      文獻(xiàn)法、實(shí)驗(yàn)法、觀察法等,通過理論加實(shí)驗(yàn)分析相結(jié)合的方法,利用到學(xué)校的一些地方加以檢驗(yàn)。

      4.5研究步驟

      查閱資料→理論分析→射頻磁控濺射制作薄膜→驗(yàn)證轉(zhuǎn)化效率→結(jié)合瓷磚→實(shí)際檢測(cè)→得出結(jié)論

      5.結(jié)論

      通過研究發(fā)現(xiàn)可以實(shí)現(xiàn)將壓力轉(zhuǎn)化為電能,但效率比較低,可以進(jìn)一步研究通過zno和其他材料相結(jié)合的或者通過合理布局瓷磚設(shè)計(jì)從而提高轉(zhuǎn)化以及利用效率。

      6.參考文獻(xiàn)

      [1]馬勇,王萬錄,呂建偉,等。ZnO薄膜的光致發(fā)光[J].功能材料,2004,35(2):139-144

      [2]李世濤,喬學(xué)亮,陳建國(guó)。透明導(dǎo)電薄膜的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用[J].激光與光電子學(xué)進(jìn)展,2003,4o(7):53-59.

      [3]葛春橋,薛亦渝,夏志林。AZO透明導(dǎo)電薄膜的制備技術(shù)光電特性及應(yīng)用[J].真空電子技術(shù),2004,16(6):51-54.

      [4]鄧允棣。氧化鋅摻雜的研究進(jìn)展[J].科協(xié)論壇,2007,7(2):50-51

      [5]許小紅,武海順。壓電薄膜的制備、結(jié)構(gòu)與應(yīng)用[M].北京:科學(xué)出版社,2002.

      [6]賀洪波,范正修。C軸擇優(yōu)取向ZnO薄膜的濺射工藝與結(jié)構(gòu)研究[J].功能材料,2000,31(增刊):77.78

      [7]包定華,張良瑩,姚熹。薄膜壓電性能的測(cè)量方法[J].硅酸鹽通報(bào),1999,18(3):18-22

      [8]馬孜,呂百達(dá)。光學(xué)薄膜表面形貌的原子力顯微鏡觀察[J].電子顯微學(xué)報(bào),2000,19(5):lO一13.

      [9]滕風(fēng)恩,煜明,姜小龍,等。x射線結(jié)構(gòu)分析與材料性能表征[M].北京:科學(xué)出版社,1997:25-40

      [10]林鴻溢,張焱,丁世昌,等。納米ZnO薄膜制備技術(shù)及其特性的研究[J].北京理工大學(xué)學(xué)報(bào),1995,15(2):132-137.

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